熱蒸發鍍膜系統
| 應用范圍 |
各類光學薄膜、低熔點金屬和合金薄膜。特別適合小型企業、科研單位和高校使用。 |
| 系統簡介 |
熱蒸發鍍膜系統通過加熱蒸發某種物質使其沉積在固體表面，實現薄膜的制備。系統主要包括有真空腔、加熱源、電源、真空泵組、以及測量與控制系統等。中科等離子公司采用多種加熱源技術，結合蒸鍍工藝，研發了多款蒸發鍍膜設備。 |
| 小型熱蒸發鍍膜機 |
采用電阻加熱蒸發工藝，可滿足各種常見金屬及部分非金屬的蒸發;設備小巧，操作簡便，設有觀察窗便于觀察鍍膜過程配合分子泵組可達到5.0×10-5Pa極限真空，能夠有效保證蒸鍍薄膜的純凈度和結合力。 |
| 產品特點 |
系統集成度高，結構緊湊，占地面積小。 科研教學兩用，真空性能優良，成膜穩定性好。 系統配置靈活，可根據客戶需求，配置不同數量和功率的蒸發源，滿足客戶定制化需求。 |
| 設備參數 | 真空室尺寸 | 極限真空度 |
| Φ300*H450mm | 5.0×10-5Pa | |
| 抽真空時間 | 真空泵 | |
| 連續30min內,≤5.0×10-4Pa | 機械泵+分子泵 | |
| 蒸發源數量 | 蒸發電源 | |
| 電阻式蒸發電極3對 | 2套2kW，其中一套可切換 | |
| 基片臺尺寸 | 加熱控制 | |
| Φ30-100min | 可加熱過水冷，最高加熱溫度500℃ | |
| 蒸距調節范圍 | 備注 | |
| 60-150mm | 可根據客戶需求定制設計 |
