等離子體鍍膜系統(tǒng)/磁控濺射鍍膜系統(tǒng)
等離子體鍍膜系統(tǒng)/磁控濺射鍍膜系統(tǒng)
CPT-CCP-300JS-A/CPT-CCP-500JS-A
所屬公司：
由安徽省金屹等離子體電源科技有限公司出品
| 產(chǎn)品介紹 |
納米級(jí)單層及多層功能膜、硬質(zhì)膜、金屬膜、半導(dǎo)體膜、介質(zhì)膜等新型薄膜材料的制備。可廣泛應(yīng)用于高校、科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備。 |
| 等離子體鍍膜系統(tǒng) |
利用真空等離子體中特有人性質(zhì)，通過蒸發(fā)、濺射或氣相沉積的方法，實(shí)現(xiàn)薄膜的制備。根據(jù)的等離子體工藝和鍍膜原理的不同，大致分為陰極弧離子鍍、磁控濺射和等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積等。中科等離子公司采用多種等離子體源技術(shù)，結(jié)合薄膜生長調(diào)控工藝，研發(fā)了多款等離子體真空鍍膜設(shè)備。 |
| 等離子體鍍膜系統(tǒng) |
主要由濺射真空室、永磁磁控濺射靶、基片加熱臺(tái)、等離子體電源(直流 /中頻/射頻電源)、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測量、電控系統(tǒng)及安裝機(jī)臺(tái)等部分組成。 |
| 設(shè)備參數(shù) |
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全國服務(wù)熱線：
地址：安徽省合肥市高新區(qū)望江西路
900號(hào)中安創(chuàng)谷科技園一期D3幢
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