等離子體鍍膜系統/磁控濺射鍍膜系統
等離子體鍍膜系統/磁控濺射鍍膜系統
CPT-CCP-300JS-A/CPT-CCP-500JS-A
所屬公司：
由安徽省金屹等離子體電源科技有限公司出品
| 產品介紹 |
納米級單層及多層功能膜、硬質膜、金屬膜、半導體膜、介質膜等新型薄膜材料的制備。可廣泛應用于高校、科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備。 |
| 等離子體鍍膜系統 |
利用真空等離子體中特有人性質，通過蒸發、濺射或氣相沉積的方法，實現薄膜的制備。根據的等離子體工藝和鍍膜原理的不同，大致分為陰極弧離子鍍、磁控濺射和等離子體增強化學氣相沉積等。中科等離子公司采用多種等離子體源技術，結合薄膜生長調控工藝，研發了多款等離子體真空鍍膜設備。 |
| 等離子體鍍膜系統 |
主要由濺射真空室、永磁磁控濺射靶、基片加熱臺、等離子體電源(直流 /中頻/射頻電源)、工作氣路、抽氣系統、真空測量、電控系統及安裝機臺等部分組成。 |
| 設備參數 |
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