電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)
電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)
CPT-EB-600ZD-A
等離子體能變換及管理系統(tǒng)
金屹等離子
所屬公司：
由安徽省金屹等離子體電源科技有限公司出品
| 產(chǎn)品介紹 |
納米器件，有機(jī)光電器件的金屬電極，以及用于生長(zhǎng)納米材料催化劑薄膜層的制備。 |
| 系統(tǒng)簡(jiǎn)介 |
該系統(tǒng)配置多坩堝電子束蒸發(fā)源，同時(shí)選擇搭配多組電阻蒸發(fā)源，在高真空條件下，利用電子束準(zhǔn)確地轟擊坩堝內(nèi)靶材,使靶材融化蒸發(fā)，進(jìn)而沉積在基片，上,在基底上凝結(jié)形成薄膜，可在基片蒸發(fā)沉積金屬、半導(dǎo)體或介質(zhì)材料，應(yīng)用于高校、科研院所制備光學(xué)薄膜、導(dǎo)電薄膜、半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜等，以及企業(yè)的小批量生產(chǎn)。 |
| 產(chǎn)品特點(diǎn) |
專用的樣品夾具，安裝方便快捷，提高實(shí)驗(yàn)效率、可靠性。 設(shè)備性能穩(wěn)定，可為待蒸發(fā)的物質(zhì)提供更高的熱量，蒸鍍速率更快。 可提供成熟的工藝參考，助理研究效率。 電子束定位精準(zhǔn)，可有效避免坩堝材料的蒸發(fā)和污染。 PLC觸摸屏控制，操控方便，結(jié)構(gòu)緊湊，點(diǎn)地面積小。 |
| 設(shè)備參數(shù) | 真空室尺寸 | 極限真空度 |
| Φ600*H750mm | 5.0×10-5Pa | |
| 抽真空時(shí)間 | 真空泵 | |
| 連續(xù)30min內(nèi),≤8.0×10-4Pa | 機(jī)械泵+分子泵 | |
| 電子槍 | 電阻蒸發(fā) | |
| 6穴坩堝電子槍，8.0kVA | 3對(duì)電極，2.0kW | |
| 基片臺(tái)尺寸 | 加熱控制 | |
| Φ30-100mm | 真空專用加熱器，最高加熱溫度500℃ | |
| 膜厚控制 | 備注 | |
| 膜厚測(cè)量系統(tǒng) | 可根據(jù)客戶需求定制設(shè)計(jì) |
全國(guó)服務(wù)熱線：
地址：安徽省合肥市高新區(qū)望江西路
900號(hào)中安創(chuàng)谷科技園一期D3幢
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